가스 공급 유닛 및 이를 갖는 이온 빔 소스

Unit for supplying gas and ion beam source having the unit

  • Inventors:
  • Assignees: 한국기계연구원
  • Publication Date: June 10, 2014
  • Publication Number: KR-101404916-B1

Abstract

이온 빔 소스의 가스 공급 유닛은 이온 빔 생성 유닛과 결합하며 이온 빔 생성 유닛의 가스 공급홀들과 연결되는 내부 공간을 형성하는 챔버와, 챔버의 외부에서 챔버를 관통하며 챔버의 내부 공간으로 가스를 공급하는 가스 공급관 및 챔버의 내부 공간에 가스 공급홀들을 커버하도록 배치되며, 내부 공간의 가스를 가스 공급홀들로 균일하게 공급하기 위한 가스 분배판을 포함한다. 가스 공급 유닛이 이온 빔 생성 유닛으로 가스를 균일하게 공급하므로 이온 빔 소스가 이온 빔을 균일하게 생성할 수 있다.

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Patent Citations (2)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2003031175-AJanuary 31, 2003Hitachi Ltd, 株式会社日立製作所Ion beam processing device
    JP-2008127610-AJune 05, 2008Ulvac Japan Ltd, 株式会社アルバックイオンビーム源及びこれを備えた成膜装置

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    Title

Cited By (1)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    KR-101526120-B1June 09, 2015한국기계연구원, 제이케이테크(주)이온빔 소스